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PVD真空镀膜原理是什么？

PVD即物理气相沉积，是当前国际上广泛应用的先进的表面处理技术。其工作原理就是在真空条件下，利用气体放电使气体或被蒸发物质部分离化，在气体离子或被蒸发物质离子轰击作用的同时把蒸发物或其反应物沉积在基材上。它具有沉积速度快和表面清洁的特点，特别具有膜层附着力强、绕性好、可镀材料广泛等优点。采用全球先进的磁控溅射离子镀膜和多弧离子镀膜工艺设备，及在此基础之上与国际专家的工艺创新。