新闻中心

宁波真空镀膜公司——真空镀膜的种类

宁波真空镀膜公司——真空镀膜的种类

在真空中制备膜层,包括镀制晶态的金属、半导体、绝缘体等单质或化合物膜。虽然化学汽相沉积也采用减压、低压或等离子体等真空手段,但一般真空镀膜是指用物理的方法沉积薄膜。真空镀膜有三种形式,即蒸发镀膜、溅射镀膜和离子镀。

真空镀膜与电镀的优缺点是什么?

真空镀膜与电镀的优缺点是什么?

水电镀的膜厚比真空溅镀的厚,水电镀膜厚一般为15~20UM,真空电镀 的膜厚一般为0.5~2UM.水电镀的化学液不同会有不同的色彩。 真空电镀的靶材不同镀膜颜色不同,真空电镀的功率,真空等级不同会有颜色的变化。

PVD真空镀膜原理是什么?

PVD真空镀膜原理是什么?

PVD即物理气相沉积,是当前国际上广泛应用的先进的表面处理技术。其工作原理就是在真空条件下,利用气体放电使气体或被蒸发物质部分离化,在气体离子或被蒸发物质离子轰击作用的同时把蒸发物或其反应物沉积在基材上。它具有沉积速度快和表面清洁的特点,特别具有膜层附着力强、绕性好、可镀材料广泛等优点。 采用全球先进的磁控溅射离子镀膜和多弧离子镀膜工艺设备,及在此基础之上与国际专家的工艺创新。

Copyright © 2018 余姚市天仁真空镀膜有限公司 All Rights Reserved. 浙ICP备13009470号